Mikro- und Nanotechnologie-Zentren

Das NSL stellt Forschungsinfrastruktur zur Layouterstellung, Belichtung und Prozessierung von Mikro- und Nanostrukturen bereit. Hierzu betreibt es am KIT (Campus Süd) einen Reinraum mit einer Nettolaborfläche von 210 m², wovon etwa 40 m² gemäß des Standards DIN EN ISO 14644-1 den Anforderungen der Reinraumklasse 6 genügen, die übrigen Flächen entsprechend der Reinraumklasse 7. Der Gerätepark des NSL umfasst schwerpunktmäßig Geräte zur Strukturierung, Manipulation und Charakterisierung von Nanostrukturen. Für die Lithografie stehen ein 50keV-Elektronenstrahlschreiber, ein Rasterelektronenmikroskop mit Raith Elphy Plus System, direktschreibende Laserlithografen für optische Lithografie in zwei und drei Dimensionen sowie ein Maskaligner zur Verfügung. Ionenstrahllithografie, Sputtern und Abscheidung mit fokussiertem Metallionenstrahl ermöglicht eine Focussed-Ion-Beam-Maschine. Hinzu kommen ein Rasterkraftmikroskop, Geräte zur Filmabscheidung mittels thermischer Verdampfung und Sputtern und Anlagen für reaktives Ionenätzen (RIE und ICP) mittels Chlor- bzw. Fluor-Chemie. Arbeiten am NSL können entweder als Serviceleistung durch Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter des NSL, als Forschungsprojekte in Kooperation, oder unter bestimmten Voraussetzungen auch eigenständig als Selbstnutzer/in durchgeführt werden. Für die Nutzung des Reinraumes und der Geräte des NSL werden Nutzungsgebühren erhoben. Die Nutzungsgebühren werden projektspezifisch anhand der im webbasierten Buchungssystem erfassten Nutzungszeiten abgerechnet. Für Drittmittelprojekte gilt die Einschränkung, dass Arbeiten an NSL-Geräten im Geb. 30.25 (CFN-Gebäude) ausschließlich für Projekte durchgeführt werden können, die den Voraussetzungen für eine Anerkennung als gemeinnützig im Sinne der Abgabenordnung entsprechen bzw. dem hoheitlichen Bereich zuzuordnen sind.